A China começou a produzir em série máquinas de litografia por imersão em ultravioleta profundo (DUV) desenvolvidas no país, tecnologia essencial para a fabricação de chips avançados, informou a agência Reuters, com base em uma fonte não identificada em razão da sensibilidade do tema. O avanço é um passo relevante na política de autossuficiência em semicondutores, uma das prioridades do presidente chinês, Xi Jinping, mas não representa ameaça comercial imediata à holandesa ASML, que domina o setor.
A produção é conduzida pela Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, estatal pouco conhecida que incorporou equipes da Yuliangsheng — empresa iniciante que começou a testar um protótipo DUV no ano passado — e da Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). A Yuliangsheng é ligada à SiCarrier, fabricante de equipamentos apoiada pela Huawei.
Criada em agosto de 2023, a Aishengna tem capital registrado de 7 bilhões de yuans (cerca de US$ 1 bilhão) e apenas dois sócios estatais: a Shanghai Electric Holding e uma subsidiária da Shanghai International Trust, segundo registros corporativos. A empresa não tem site nem informações públicas sobre suas operações. Aishengna, sócios, SMEE e Yuliangsheng não responderam a pedidos de comentário.
O site The Information revelou o desenvolvimento das máquinas na segunda-feira, 27, sem identificar a fabricante, e apontou a produção de cerca de cinco unidades neste ano e de aproximadamente 20 em 2027. A Reuters foi a primeira a identificar a empresa.
Equipamento ainda depende de testes
A máquina da Aishengna ainda precisa passar por testes adicionais e está distante de igualar o desempenho dos modelos concorrentes da ASML, segundo a fonte ouvida pela Reuters. Se a implementação for bem-sucedida, no entanto, os fabricantes chineses passarão a contar com uma alternativa caso governos ocidentais ampliem as restrições à exportação ou à manutenção de equipamentos estrangeiros.
As máquinas devem ser entregues ainda neste ano à Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), à Hua Hong Semiconductor e à fabricante de chips de memória ChangXin Memory Technologies (CXMT), informou o The Information, com base em duas pessoas a par do assunto. ASML, SMIC, Hua Hong e CXMT não responderam de imediato aos pedidos de comentário.
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As ações da ASML caíram 8% na segunda-feira, após a reportagem do The Information, e recuavam mais 1,6% às 9h06 (horário de Greenwich) desta terça-feira, em linha com outras empresas europeias do setor, mas abaixo do índice pan-europeu STOXX 600.
Analistas do JP Morgan Chase avaliaram, em relatório desta terça-feira, que produzir um punhado de máquinas DUV por imersão não equivale a fabricar equipamentos aptos à produção em alto volume, na qual pesam taxa de rendimento, sobreposição de camadas, throughput e confiabilidade ao longo de milhares de ciclos. Para eles, a notícia não deve alterar a trajetória de resultados da ASML no médio prazo.
Barreira do EUV permanece
Máquinas DUV por imersão usam uma camada de água entre a lente de projeção e a lâmina de silício para imprimir padrões de circuito menores que os obtidos por sistemas secos. Servem a uma ampla gama de chips e podem ser forçadas a produzir semicondutores mais avançados por meio da multipadronização, técnica que exige exposições repetidas da mesma camada.
Os Estados Unidos proibiram a China de comprar os sistemas de litografia ultravioleta extrema (EUV) da ASML, os mais avançados da empresa, e controles de exportação holandeses também restringiram o acesso a parte das máquinas DUV mais modernas. Em dezembro, a Reuters informou que o país conseguiu construir um protótipo de EUV, ainda a anos da produção.
Mesmo com o esforço de autossuficiência, a China segue como pilar de receita da ASML: respondeu por cerca de 16% das vendas líquidas da companhia no primeiro semestre.
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